隔膜漿陶瓷研磨分散機

產(chǎn)品型號： GMD2000/4

所屬分類：化工級研磨分散機

更新時間：2025-09-12

簡要描述：隔膜漿陶瓷研磨分散機現(xiàn)場
   陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉(zhuǎn)子，二組陶瓷定子組成，在陶瓷膠體磨泵腔內(nèi)部轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)，使陶瓷轉(zhuǎn)子甩出，緊貼陶瓷定子，產(chǎn)生強勁的動能能快速地將粉體分散到液體中，高效、快速、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續(xù)的相中，通常物料中的各個相是互不相溶的。。使物料在定轉(zhuǎn)子之間微小的空隙中受到剪切、離心擠壓、撞擊、研磨、高頻振蕩等綜合作用，使物料經(jīng)過研磨后細度大大提高，再通過適量

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 隔膜漿陶瓷研磨分散機現(xiàn)場

   陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉(zhuǎn)子，二組陶瓷定子組成，在陶瓷膠體磨泵腔內(nèi)部轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)，使陶瓷轉(zhuǎn)子甩出，緊貼陶瓷定子，產(chǎn)生強勁的動能能快速地將粉體分散到液體中，高效、快速、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續(xù)的相中，通常物料中的各個相是互不相溶的。。使物料在定轉(zhuǎn)子之間微小的空隙中受到剪切、離心擠壓、撞擊、研磨、高頻振蕩等綜合作用，使物料經(jīng)過研磨后細度大大提高，再通過適量的添加劑共同作用，使產(chǎn)品快速、均勻、分散、乳化，研磨，避免了原金屬膠體磨磨損后效果差缺點，效能比原來有膠體磨提高3倍以上，特別是對金屬污染要求特別高的企業(yè)，如電子和電池行業(yè)，可以達到更高品質(zhì)產(chǎn)品。

隔膜對氧化鋁的性能要求：

1.粒徑均勻性，能很好的粘接到隔膜上，又不會堵塞隔膜孔徑。

2.氧化鋁純度高，不能引入雜質(zhì)，影響電池內(nèi)部環(huán)境。

3.氧化鋁晶型結(jié)構(gòu)的要求，保證氧化鋁對電解液的相容性及浸潤性。

涂覆高純氧化鋁（VK-L30G）隔膜的優(yōu)點：

1.耐高溫性：

氧化鋁涂層具有優(yōu)異的耐高溫性，在180攝氏度以上還能保持隔膜形態(tài)。

2.高安全性：

氧化鋁涂層可中和電解液中游離的HF，提升電池耐酸性，安全性提高。

3.高倍率性能：

納米氧化鋁在鋰電池中可形成固溶體，提高倍率性和循環(huán)性能

4.良好浸潤性：

納米氧化鋁粉末具有良好的吸液及保液能力。

5.*的自關(guān)斷特性：

保持了聚烯烴隔膜的閉孔特性，避免熱失控引起安全隱患。

6.低自放電率：

氧化鋁涂層增加微孔曲折度，自放電低于普通隔膜。

7.循環(huán)壽命長：

降低了循環(huán)過程中的機械微短路，有效提升循環(huán)壽命。

隔膜分散設(shè)備

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。