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    輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機(jī)

    輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): GMD2000/4

    所屬分類(lèi):研磨分散機(jī)

    更新時(shí)間:2025-09-08

    簡(jiǎn)要描述:SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機(jī)可以處理量大,運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料通過(guò)分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

    詳細(xì)說(shuō)明:

    輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機(jī),輕鈣粉研磨分散機(jī),高速研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口研磨分散機(jī),氫氧化鈣研磨分散機(jī),管線(xiàn)研磨分散機(jī),在線(xiàn)研磨分散機(jī),連續(xù)研磨分散機(jī)

     

     

    SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機(jī)可以處理量大,運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料通過(guò)分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

     

    GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

     

    GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

     

     

    技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來(lái)電:葛   公司有樣機(jī)可供客戶(hù)購(gòu)前實(shí)驗(yàn),
    歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀指導(dǎo)!

     

    的特點(diǎn):

    1、 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

    2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

    設(shè)備其它參數(shù):

    設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
    電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
    電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
    研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 、SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
    研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
    進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

     

    從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線(xiàn)速度的計(jì)算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率

    在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

     

    GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
     

    型號(hào)

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線(xiàn)速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    GMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

     



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