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    鋰電池納米氧化鎂研磨分散機

    鋰電池納米氧化鎂研磨分散機

    產(chǎn)品型號: GMD2000

    所屬分類:研磨分散機

    更新時間:2025-04-27

    簡要描述:SGN鋰電池納米氧化鎂研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

    詳細說明:

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    SGN鋰電池納米氧化鎂研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

    納米氧化鎂是一種新型納米微粒材料,外觀白色粉末,純度高、比表面積大,由極細的晶粒組成,無毒、無味、分散性好,相對密度約3.58(25℃)。熔點2852℃,沸點3600℃.難溶于水,不溶于醇,溶于酸或銨鹽溶液中。納米級氧化鎂具有明顯的小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)和宏觀隧道效應(yīng),經(jīng)改性處理,無團聚現(xiàn)象,在光學(xué)、催化、磁性、力學(xué)、化工等方面具有許多特異功能及重要應(yīng)用價值,前景非常廣闊,是21世紀(jì)重要新材料。  

    (價格電議:葛    公司有樣機可供客戶實驗!)

     

    技術(shù)指標(biāo):

    項目

    指標(biāo)

    型號

    DC-MgO-002

    氧化鎂%

    99.9

    粒徑

    30nm

    鈣 ppm <

    3

    氯化物 ppm <

    3

    鐵ppm <

    3

    灼燒失量%,<

    0.3

    比表面m2/g

    60-100

     

    在鋰電池中的應(yīng)用特性

    1. 在鋰電池中的應(yīng)用

    在鋰離子蓄電池正極材料中添加適量的納米氧化鎂,所得正極材料擁有大于140mAh/g的可逆放電容量,且循環(huán)性能良好。在正極材料中使用可以提高導(dǎo)電性,建議添加量 0.3-0.5%

    2. 鋅鎳蓄電池中的應(yīng)用

    通過物理混合的方法在鋅負極活性物質(zhì)中摻入氧化鎂,可減少充放電極化、減少循環(huán)后期的內(nèi)阻、提高負板活性物質(zhì)利用率、延長電池循環(huán)壽命,適宜添加量為1.0%wt的氧化鎂,且添加量不宜超過2.0%。

    3. 高氯化鋅電池中的應(yīng)用

    在正極活性物質(zhì)中添加少量的氧化鎂可以調(diào)節(jié)電液酸度,減緩自放電,抑制電池氣脹,提高貯存性能,且對提高放電容量及促進漿層糊化有*的效果。建議添加量 0.5-1%,并調(diào)節(jié)合適的PH值。

    4. 鎘鎳蓄電池中的應(yīng)用

    在鎘電極中添加適量的氧化鎂、氧化鋅和氧化鐵可提高活性物質(zhì)利用率;添加氧化鎂,三氧化二銦和氧化鋅,可提高密封鎘鎳蓄電池的荷電保持能力

     

    是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

     

    的特點:

    1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    設(shè)備其它參數(shù):

    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
    電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì)SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

     

    從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

     

    GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
     

    型號

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    GMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%



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