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    鋁粉銀漿研磨分散機

    鋁粉銀漿研磨分散機

    產品型號: GMD2000

    所屬分類:研磨分散機

    更新時間:2025-04-28

    簡要描述:SGN鋁粉銀漿研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

    詳細說明:

    一、產品關鍵詞:

    鋁粉銀漿研磨機,鋁粉分散機,鋁粉漿料分散機,鋁粉研磨分散機,SGN鋁粉分散機,德國鋁粉漿料分散機,鋁粉研磨分散機,德國高速分散機

    二、研磨分散機的設計

    SGN鋁粉銀漿研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

     

     

     

    三、鋁粉的介紹

    鋁粉銀漿的表面積較大,易發生團聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機可幫您解決此類難題。 

    銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質要求是十分嚴格的。其品質的高低、含量的多少,以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系。銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的,當然分散劑的應用也是*的。

    四、研磨分散機的工藝

    鋁粉銀漿研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。

    五、GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第er級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    六、研磨分散機的結構

    GMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。

    七、研磨分散機的特點:

    1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

    2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

    4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

     

    八、從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
    SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

     所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

     

    九、GMD2000系列研磨分散機設備選型表
     

    型號

    流量

    L/H

    轉速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    GMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

    流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%



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